Çin, ilk 28nm litografi aracını geliştirmeyi başardı
Çin, yarı iletken alanında dışa olan bağımlılığını sonlandırmak istiyor. ABD’nin ihracat kısıtlamaları altında zorlanan ülke, bir süre önce ilk 28nm litografi aracının gelişimini tamamladı.
Çin'in en başarılı litografi sistemleri üreticisi Shanghai Micro Electronics Equipment’in (SMEE), 28nm sınıfı üretim sürecinde çip üretebilen ilk tarayıcısını yıl sonuna kadar teslim edeceği bildirildi. Bu haber resmi olarak onaylanmasa da Çin medyasında kendisine yer edindi. Bununla birlikte Çin’in bu adımı, ülkenin yarı iletken alanında dışa olan bağımlılığını noktalama istediği açısından son derece önemli.
Çin’den litografi sistem atağı
SMEE için geliştirilen SSA/800-10W tarayıcısı bir atılım niteliği taşıyor zira şirketin bugün sahip olduğu en gelişmiş tarayıcı yalnızca 90nm veya daha üst üretim süreçlerinde kullanılabiliyor. 28nm kapasiteli litografi aracı zamanla Çinli yonga üreticilerinin bir dizi olgun teknoloji için yerli üretim kapasitesine güvenmelerini sağlayabilir.
Bu hamle, Çin'in yarı iletkende kendi kendine yeterliliğe ulaşma ve yabancı teknolojiye olan bağımlılığını azaltma hedefinin bir parçası olarak yorumlanmalı. Öte yandan SMEE'nin bu tarayıcıyı kitlesel miktarlarda üretip üretemeyeceği ve ASML, Canon ve Nikon'un makinelerinin yerini almak üzere tarayıcının ne zaman kullanıma sunulacağı halen cevap bekliyor. Ancak şu kesin; SMEE, Çin'in ASML'si olma yolunda ilerliyor
ABD'nin mevcut ihracat kısıtlamaları, Çinli yonga üreticilerinin 14nm/16nm boyutlarının altında düzlemsel olmayan transistörlü mantık yongaları, 127'den fazla aktif katmana sahip 3D NAND yongaları ve 18nm'den daha küçük DRAM’ler oluşturmak için gerekli araç ve teknolojilere erişimini engelliyor. Bu yılın başlarında Hollanda, Japonya ve Tayvan'ın da kısıtlamalara dahil olmasıyla Çin’in gelişmiş araçlara erişimi neredeyse sıfırlandı.
{{body}}
{{/longBody}} {{^longBody}}{{body}}
{{/longBody}}