High-NA EUV litografi ile birlikte yeni nesil daha güçlü çipler yapılabilecek, dolayısıyla yarı iletken endüstrisinde bu makinelerin önemi çok büyük. High-NA EUV makineleri, önceki EUV makinelerine kıyasla farklı lensler kullanıyor ve daha küçük devrelerin daha net bir çözünürlükle üretilebilmesini sağlıyor.
TSMC, bu ay ilk makineyi alacak
TSMC için ilk High-NA EUV makinesini teslim alsa bile ilk makinenin kurulumu birkaç hafta sürecek. Ayrıca firmanın ASML ile birlikte makineyi kalibre etmesi de zaman alacak. Bu süre zarfında Ar-Ge faaliyetleri de yürütülecek.
TSMC, daha önceki açıklamalarında mevcut nesil EUV tarayıcıları ile en az 2026 yılına kadar üretim yapacağını söylemiş ve bu yüzden yılın başlarında High-NA’e pek ihtiyaç duymadıklarını beyan etmişti. TSMC, 2026 yılına kadar A16 yani 1.6 nm süreç teknolojisine geçmeyi hedefliyor. Bu arada Samsung’un ise ilk yüksek NA EUV makinesini 2024’ün son çeyreğinde ya da 2025’te alacağına dair söylentiler var. High-NA EUV makinelerini ilk alan ise Intel olmuştu, firmanın elinde iki adet makine bulunuyor.
Haberi DH'de Gör
{{body}}
{{/longBody}} {{^longBody}}{{body}}
{{/longBody}}