TSMC, ciddi performans artışı sağlayacak yeni nesil üretim tekniklerini detaylandırdı
TSMC, Japonya'da düzenlediği konferansta N3E işlem süreci ve getirdiği performans artışları hakkında bilgiler paylaştı. Bununla birlikte şirket, yeni nesil N2 süreci için de bir yol haritası sundu.
TSMC'nin Kıdemli Başkan Yardımcısı Kevin Zhang, 2022 mali yılında yatırım tutarının 5,4 milyar dolara ulaştığın belirtirken hızlı bir büyüme içerisinde olduklarını vurguladı. Finansal başarının yanında TSMC’nin üretim teknolojileri konferansın merkezine konumlandı. Firmanın N5P, N4 ve N4P süreçlerinin yanı sıra, yeni N4X (5nm) sürecinin ilk nesil N5’e (5nm) göre yüzde 14 performans artışı ve yüzde 6 daha yüksek çip yoğunluğu sunduğunu aktarıldı.
Son olarak, şirket devam etmekte olan ve 2025 yılına kadar üretime geçmesi beklenen 2nm sürecinden bahsetti. TSMC, esas olarak performans verimliliğindeki fark nedeniyle FinFET transistörlerinden vazgeçerek nanosheet teknolojisine geçecek. Firma, 2nm yongaların aynı güç tüketiminde yüzde 10-15 daha yüksek performans ve aynı hızlarda yüzde 25-30 gibi iddialı düşük güç tüketimi sağlayacağını iddia ediyor. TSMC’nin 2nm yongalarının tıpkı 3nm’de olduğu gibi ilk olarak Apple tarafından kullanılması bekleniyor.
{{body}}
{{/longBody}} {{^longBody}}{{body}}
{{/longBody}}