Yeni deri altı implantı, aşırı doz ölümlerini önleyebilir

iSOS implantı, aşırı dozdan kaynaklanan riskleri ortadan kaldırabilir
Yorumlar

Ayça Melisa Karadede

Teknoloji Editörü

Yeni deri altı implantı, aşırı doz ölümlerini önleyebilir — Haşhaş bitkisinde bulunan doğal maddelerden türetilen bir ilaç sınıfı olan **opioidler**, önemli birçok hastalığın tedavisinde kullanılmasına rağmen fazla kullanıldığında bağımlılık yapabilmekte. Sadece bununla kalmayan opioidler, **aşırı dozdan** kaynaklanan ölümlere de sebep olabilmekte.

Aşırı doz aldığında, mümkün olan en kısa sürede opioid tersine çeviren bir ilaç olan nalokson alması kritik derecede önemlidir. Çünkü aksi takdirde ölüm riski çok fazladır. Ancak yakın zamanlı yeni bir çalışma, naloksonu otomatik olarak vücudun içinden dağıtarak bu soruna çözüm bulmuş olabilir.

iSOS implantı, aşırı dozdan kaynaklanan riskleri ortadan kaldırabilir

Opioid Güvenliği için İmplante Edilebilir Sistem'in kısaltması olan iSOS implantı, MIT ve Harvard'a bağlı Brigham and Women's Hospital'dan bir grup bilim insanı tarafından geliştirildi. Cihaz 78 mm uzunluğunda, 12 mm genişliğinde ve 8 mm kalınlığında. Bünyesinde 10 miligram nalokson bulunduran implant, ayrıca pil, vibratör ve Bluetooth modülü gibi elektronik aksamların yanı sıra çoklu EKG elektrotları ve bir dizi başka sensör de barındırmakta.

Ayrıca hastanın ve acil durum irtibat kişisinin akıllı telefonundaki uygulamaya bir uyarı gönderen implant, yanlış bir durumda uygulama aracılığıyla durması sağlanabilir. Ancak bu hemen yapılmazsa iSOS, kan dolaşımına hızla bir doz nalokson pompalamaya devam eder.

Laboratuvar testlerinde cihaz, aşırı dozda fentanil alan domuzların %96'sını ortalama 3,2 dakika içinde başarıyla hayata döndürdü. Bataryası şu anda 16 günlük yaşamsal belirti takibi için yeterli ve gerektiğinde kablosuz olarak yeniden şarj edilebiliyor. Son olarak implanttaki naloksonun bitmesi durumunda deri yoluyla implantın üstündeki bir porta yerleştirilen bir hipodermik iğne aracılığıyla yeniden doldurulabilir.