Sınırlar zorlanıyor: TSMC, 1.4nm sürecini geliştiriyor

Yüksek teknolojinin belkemiği olan TSMC, EEE Uluslararası Elektron Cihazları Toplantısı(IEDM) sırasında düzenlenen Future of Logic panelinde 1.4nm sınıfı üretim teknolojisinin geliştirilmesine devam edildiğini açıkladı. TSMC ayrıca 2nm sınıfı üretim sürecini kullanarak seri üretimin 2025'e yetiştirileceğini tekrar vurguladı.

TSMC’de hedef 1.4nm

SemiAnalysis'ten Dylan Patel tarafından yayınlanan bir slayta göre, TSMC'nin 1.4nm üretim düğümü resmi olarak A14 olarak adlandırılıyor. Şimdilik TSMC, A14'te yüksek hacimli üretime (HVM) ne zaman başlamayı planladığını veya bu sürecin özelliklerini açıklamadı. Ancak, N2'nin yani 2nm'nin 2025'in sonlarında ve N2P'nin 2026'nın sonlarında yapılması planlandığından, A14 teknolojisinin bu ikisinden sonra (2027 - 2028) geleceğini tahmin etmek yanlış olmayacaktır.

Sürecin özellikleri söz konusu olduğunda, TSMC’nin A14 teknolojisinde dikey olarak istiflenmiş alan etkili transistörleri (CFET) benimsemesi pek olası değil. Bu nedenle A14, tıpkı N2 düğümlerinde olduğu gibi, muhtemelen şirketin 2. veya 3. nesil gate-all-around (GAAFET) transistörleri kullanacak. N2 ve A14 gibi düğümler, gerçekten fark yaratmak ve yeni performans, güç ve özellik seviyelerini mümkün kılmak için sistem düzeyinde uyumlu optimizasyon gerektiriyor.

TSMC'nin 2027 - 2028 zaman diliminde A14 süreç teknolojisi için High-NA EUV litografi araçlarını benimseyip benimsemeyeceği henüz belli değil. O zamana kadar Intel'in (ve muhtemelen diğer yonga üreticilerinin) 0,55 sayısal açıklığa sahip yeni nesil EUV litografi makinelerini benimsemiş ve mükemmelleştirmiş olacağı göz önüne alındığında, TSMC’nin bunları kullanması zor olmayacaktır. Intel, Samsung ve diğerlerinin çip üretimi için yeni teknolojiler geliştirmesiyle birlikte, günümüz ile 1.4nm mikroişlemcilerin gelişi arasında daha çok şey değişecektir.